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Português  |
12034-59-2.
Nbox.
410800Srt.
≥99,95%
Personalizado
234-809-7.
Característica
Composição química e propriedades físicas do produto:
Fórmula química: nb2ox (x <5)
Resistividade (20 ° C): 0,1 ou menos Ω. Cm
Processo de moldagem: pulverização
Densidade:> 4.3g / cm3 gt; 95%)
Pureza:> 99,95%
Conteúdo da impureza (unidade: PPM, conteúdo total de impureza ≤ 500ppm)
Método de embalagem: Embalagem selada a vácuo, usando casos de madeira padrão de exportação.
Inscrição
Usado principalmente no sistema de filmes de vidro Low-e, sistema de filme de eletrodo de célula solar de filme fino, TFT, semicondutor.
Característica
Composição química e propriedades físicas do produto:
Fórmula química: nb2ox (x <5)
Resistividade (20 ° C): 0,1 ou menos Ω. Cm
Processo de moldagem: pulverização
Densidade:> 4.3g / cm3 gt; 95%)
Pureza:> 99,95%
Conteúdo da impureza (unidade: PPM, conteúdo total de impureza ≤ 500ppm)
Método de embalagem: Embalagem selada a vácuo, usando casos de madeira padrão de exportação.
Inscrição
Usado principalmente no sistema de filmes de vidro Low-e, sistema de filme de eletrodo de célula solar de filme fino, TFT, semicondutor.
