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NOTÍCIAS

  • 02-18
    2022
    [Notícias] Alvos de alta pureza de chips semicondutores
    O alvo de pulverização é o fator mais importante para determinar o rendimento do semicondutor. Assim, aplicado ao ponto-semicondutor e o grau de precisão requerido, é a maior pureza, o grau de pureza de materiais alvo de pulverização e precisão afetará diretamente o desempenho do semicondutor, a diferença de sputtering materiais alvo é as conseqüências mais diretas causadas por curto-circuito semicondutor Leia Mais »
  • 02-17
    2022
    [Notícias] Desempenho e aplicação do pó de cobalto
    1. Material de gravação magnética de alta densidade pode melhorar muito o desempenho de fita e discos suaves de grande capacidade, usando as vantagens de alta densidade de gravação, alta coercividade (até 119,4ka / m), alta relação sinal-ruído e boa resistência de oxidação do pó nano-cobalto; 2. Fluido magnético com ferro, cobalto, níquel e produção de pó de liga de excelente desempenho, pode ser amplamente utilizado na aborção de choque, regulação de som, exibição de luz, etc; Leia Mais »
  • 02-16
    2022
    [Notícias] Aplicação do óxido de zinco
    O óxido de zinco tem uma grande lacuna de banda e energia de ligação de excitação, alta transparência, excelente desempenho de luminescência à temperatura ambiente, e tem sido usado no campo de semicondutores de exibição de cristal líquido, transistores de filmes finos, diodos emissores de luz e outros produtos. Além disso, como um tipo de óxido de zinco microgranular e nanomaterial também começou a desempenhar um papel em campos relacionados. Leia Mais »
  • 02-15
    2022
    [Notícias] Revestimentos resistentes à oxidação de alta temperatura de ligas de tântalo e tântalo
    Tantalum e Tantalum Liga têm as vantagens do alto ponto de fusão, boa resistência à corrosão, excelente força de alta temperatura, bom desempenho de usinagem, soldabilidade, baixa transição plástica / frágil e excelentes propriedades mecânicas dinâmicas. É amplamente utilizado em eletrônicos, armas, indústria química, indústria aeroespacial e sistema de energia nuclear espacial, etc. É um material estrutural ideal para trabalhar a 1600 ℃ ~ 1 800 ℃. Leia Mais »
  • 02-14
    2022
    [Notícias] Pó leve de óxido de magnésio
    Óxido de magnésio leve é ​​um produto muito utilizado, e o processo de produção de óxido de magnésio leve é ​​muito ecologicamente correto, o processo de produção nacional mais avançado de óxido de magnésio leve é ​​geralmente o seguinte: 1. O óxido de magnésio leve é ​​calcinado em um tradicional rotativo Forno de calcinação com hidróxido de magnésio como a principal matéria-prima; Leia Mais »
  • 02-11
    2022
    [Notícias] O que é deposição de vapor químico (CVD)?
    Quais são as principais vantagens e desvantagens da CVD? O CVD usa um ou mais gases para reagir quimicamente em um substrato sólido aquecido e para revestê-lo com um filme sólido. Vantagens: 1. Os requisitos de grau de vácuo não são altos, mesmo não precisam de vácuo, como revestimento de pulverização quente; 2. Rápida taxa de deposição, CVD atmosférico pode chegar a 1 μm / min; 3. Comparado com o PVD. Composição química ou revestimento de liga é mais fácil de alcançar; Leia Mais »
  • 02-10
    2022
    [Notícias] Tecnologia de Produção Rara Nanomaterials
    Atualmente, tanto a produção quanto a aplicação de nanomateriais atraíram a atenção de todos os países. A nanotecnologia da China fez progresso contínuo, no Nano-nível SiO2, TiO2, AL2O3, ZNO2, Fe2O3 e outros materiais em pó, tem sido uma produção industrial de sucesso ou produção de experiências, mas o processo de produção existente, alto custo de produção é sua fraqueza fatal, afetará a promoção e aplicação de nanomateriais, então devemos continuar a melhorar. Leia Mais »
  • 02-09
    2022
    [Notícias] Material alvo de tungstênio de alta pureza (fabricação de chips)
    Alta alvo de tungstênio de pureza é um substrato importante para a transição do filme de óxido de tungstênio em dispositivos semicondutores. Devido ao alto ponto de fusão de tungstênio, os alvos de tungstênio são preparados principalmente por metalurgia em pó. O método de preparação inclui a pureza de 99,999% ou mais, tamanho de partículas de 3,2 4.2μm de tungstênio em pó para mistura uniforme, colocado no forno de tratamento térmico a vácuo para pré-desgaseificação, e depois em hidrogen, continua a aquecimento de etapas de degassagem Leia Mais »
  • 02-08
    2022
    [Notícias] Aplicação de Nanomaterials em vários campos
    A aplicação de nanomateriais em vários campos Os nanomateriais têm efeito de volume, efeito de superfície, efeito de tamanho quântico, efeito de tunelamento quântico macroscópico e assim por diante, o que os faz apresentam características que os materiais convencionais não têm em electricidade, magnetismo, luz e outros aspectos. Cientistas e engenheiros resolveram muitos problemas técnicos usando as propriedades especiais dos nanomateriais. Leia Mais »
  • 02-07
    2022
    [Notícias] Carboneto de silicone (SIC): material semicondutor de terceira geração
    Baseado em dispositivos de silício no design e desenvolvimento sofreram muitas gerações da estrutura e otimização e renovação de processos, é gradualmente próxima do limite do material de silício, com base no potencial para melhorar o desempenho dos dispositivos de silício tornam-se cada vez mais pequenos para Nitreto de gálio, carboneto de silício como representante da terceira geração de semicondutores têm excelentes propriedades físicas de materiais, a fim de melhorar ainda mais o desempenho do dispositivo de eletrônica de energia fornece um espaço maior. Leia Mais »
  • 02-04
    2022
    [Notícias] Materiais de armazenamento de hidrogênio de terra rara Usher em uma nova oportunidade
    A pesquisa e a aplicação da Terra rara em materiais funcionais incluem principalmente nanomateriais da Terra rara, nanomateriais ultrafinos da terra rara, a aplicação da terra rara em polímeros funcionais, o estudo do estabilizador térmico de PVC baseado em terra raro e seu desempenho de supressão de poluição, e a preparação e desempenho do catalisador de Nanoalloy da Terra rara, que são usados ​​principalmente em materiais de armazenamento de hidrogênio e indústria de aplicação de energia de hidrogênio. Leia Mais »
  • 02-03
    2022
    [Notícias] O que está pulverizando alvo?
    O revestimento de sputtering magnetron é um novo método de revestimento de fase gasosa física, que é usar o sistema de arma de elétrons para emitir elétrons e focar no material revestido, para que os átomos de pulverização se seguem o princípio de conversão de momentum para voar do material com um alto cinético energia para o filme de deposição de substrato. Este material banhado é chamado de alvo de pulverização. Leia Mais »
  • 02-02
    2022
    [Notícias] Zirconium Diboride Cerâmica - O modelo de utilidade refere-se a um material cerâmico estrutural ultra-alta temperatura
    O Boride é um material comum em Borides, e há três tipos de boride zircônio no sistema de boro-zircônio, respectivamente, monoborida zircônio (ZRB), zircônio diboride (ZRB2) e zircônio doze boride (ZRB12). No entanto, devido à boa estabilidade do diborido de zircônio em uma ampla faixa de temperatura, então a produção industrial de boride de zircônio é principalmente diboride de zircônio como componente principal. Leia Mais »
  • 02-01
    2022
    [Notícias] Propriedades e propriedades químicas de Boron Carbide
    Carboneto de Boro, também conhecido como Black Diamond, é uma forma orgânica. A forma molecular é B₄c. Geralmente é um pó fino preto acinzentado. É um dos três materiais mais difíceis conhecidos (os outros são diamantes e nitreto boro cúbico) e é usado em muitas aplicações industriais. Tem uma dureza de Mohs de 9,3. Então, quais são as propriedades e propriedades químicas do carboneto de boro? Leia Mais »
  • 01-28
    2022
    [Notícias] Quais são os requisitos da impressão 3D sobre o desempenho do pó de metal?
    Quais condições os pós de metal precisam atender a fim de atender aos requisitos de materiais de impressão 3D? As inclusões cerâmicas reduzirão significativamente o desempenho do produto final, e essas inclusões geralmente têm um alto ponto de fusão e são difíceis de serem sinterizados, portanto, nenhuma inclusão cerâmica deve estar no pó. Leia Mais »
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