Alvo AZO (óxido de zinco dopado por alumina)

Os filmes finos de ZNO (AZO) dopados por alumínio são depositados pelo método de fabricação economicamente versátil de electrospraying em dois tipos de substratos - bolacha de vidro e silício, a temperatura de substrato de 300 ° C, voltagem de 18kv e emissor de 6cm A desidrato de acetato de zinco dissolvido em uma mistura de água desionizada, etanol e ácido acético é usada para deposição de filme zno não aberto, enquanto para al-doping um dois materiais precursores são escolhidos - cloreto de alumínio e nitrato de alumínio dissolvido em etanol. Os níveis de doping são 5 e 10% e a dependência de concentração de propriedades de filmes é investigada. Todos os filmes exibem estrutura policristalina com diminuição do tamanho dos cristalites a partir de 21nm para filmes de 19nm e 17nm para a AZO (alumina-dopados de óxido de zinco) dopados com 5 e 10wt% al, respectivamente. A mudança dos picos XRD de amostras de dopadas para ângulos de maior difração revela uma incorporação bem sucedida de Al em treliça ZNO. As propriedades ópticas são investigadas por medições de elipsométricas e fotoluminescentes. Uma diminuição do índice de refração de 1,89 para amostra não aberta para 1,84 e 1,83 por filmes de 5 e 10% de AZO (alumina-dopado de zinco), respectivamente e um aumento da lacuna de banda óptica de 3,30EV são observadas. Uma diminuição substancial da resistência à folha é medida para filmes AZO: 86Ω / □ e 61Ω / □ para 5% e amostras de 10%, respectivamente. Simultaneamente, a transmitância dos filmes é mantida alta. Os valores médios na faixa visível para filmes com espessura de 200nm são 86% para não apoiados e 84% e 80% para 5 e 10% de filmes al-dopados, respectivamente. Assim, a aplicabilidade dos filmes estudados como eletrodos condutivos transparentes é demonstrado.