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Português  |
12033-62-4.
Bronzeado
730700gn.
99,95%
3 mm - 6 mm
234-788-4.
Característica
O nitreto de Tantalum (TAN) é um composto químico, um nitreto de tântalo. Existem várias fases de compostos, stoichimetricamente de ta2N para ta.3N5 incluindo bronzeado.
Fórmula Química: Tan
Massa molar: 194.955 g / mol
Aparência: cristais pretos
Densidade: 14,3 g / cm3
Ponto de fusão: 3.090 ° C (5,590 ° F; 3.360 K)
Solubilidade na água: insolúvel
Estrutura de cristal: hexagonal, HP6
Inscrição
Às vezes é usado na fabricação de circuitos integrados para criar uma barreira de difusão ou camadas \"cola \" entre cobre ou outros metais condutivos. No caso de processamento de Beol (a c. 20 nm), o cobre é primeiro revestido com o tântalo, depois com o bronzeado usando deposição de vapor físico (PVD); Este cobre revestido de barreira é então revestido com mais cobre por PVD e preenchido com cobre revestido eletroliticamente, antes de ser processado mecanicamente.
Ele também tem aplicação em resistores finos de filmes. Tem a vantagem sobre os resistores de nicrome de formação de um filme de óxido passivando que é resistente à umidade.
Característica
O nitreto de Tantalum (TAN) é um composto químico, um nitreto de tântalo. Existem várias fases de compostos, stoichimetricamente de ta2N para ta.3N5 incluindo bronzeado.
Fórmula Química: Tan
Massa molar: 194.955 g / mol
Aparência: cristais pretos
Densidade: 14,3 g / cm3
Ponto de fusão: 3.090 ° C (5,590 ° F; 3.360 K)
Solubilidade na água: insolúvel
Estrutura de cristal: hexagonal, HP6
Inscrição
Às vezes é usado na fabricação de circuitos integrados para criar uma barreira de difusão ou camadas \"cola \" entre cobre ou outros metais condutivos. No caso de processamento de Beol (a c. 20 nm), o cobre é primeiro revestido com o tântalo, depois com o bronzeado usando deposição de vapor físico (PVD); Este cobre revestido de barreira é então revestido com mais cobre por PVD e preenchido com cobre revestido eletroliticamente, antes de ser processado mecanicamente.
Ele também tem aplicação em resistores finos de filmes. Tem a vantagem sobre os resistores de nicrome de formação de um filme de óxido passivando que é resistente à umidade.
