O que está pulverizando alvo?

O revestimento de sputtering magnetron é um novo método de revestimento de fase gasosa física, que é usar o sistema de arma de elétrons para emitir elétrons e focar no material revestido, para que os átomos de pulverização se seguem o princípio de conversão de momentum para voar do material com um alto cinético energia para o filme de deposição de substrato. Este material banhado é chamado dealvo de pulverização.

Aplicação de alvo de pulverização

A pulverização é uma das principais tecnologias de preparação de materiais de filme fino, que faz uso do íon, fonte de íons através da aceleração recolhida em um vácuo, e a formação de um feixe de íons de alta velocidade, o bombardeio de superfície sólida, íons e sólidos. Troca de impulso atômico de superfície, desde sólido e deposição atômica de superfície sólida na superfície basal, o sólido bombardeado é a película de deposição de matérias-primas. É chamado de material alvo de sputtering. Vários tipos de materiais de película fina de pulverização têm sido amplamente utilizados em circuitos integrados semicondutores, registrando mídia, exibição planar e revestimento de superfície de peça de trabalho. A alta temperatura e o alto ambiente de vácuo na câmara de reação faz com que esses átomos de metal fiquem grãos, que são então micropaternas e gravados em camadas de fios de metal que transmitem dados no chip.

O alvo de pulverização é usado principalmente em eletrônica e indústria de informações, como circuitos integrados, armazenamento de informações, exibição de cristal líquido, memória laser, dispositivos de controle eletrônico, etc. Também pode ser usado no campo de revestimento de vidro; Também pode ser usado em materiais resistentes ao desgaste, resistência à corrosão de alta temperatura, produtos decorativos de alta qualidade e outras indústrias.