Os alvos de pulverização são usados ​​principalmente na indústria de informações eletrônicas, como circuitos integrados, armazenamento de informações, exibição de cristal líquido, memória laser, dispositivos de controle eletrônico, etc. Ele também pode ser usado em revestimento de vidro, materiais resistentes ao desgaste, resistência à corrosão de alta temperatura, Produtos decorativos de alta qualidade e outras indústrias. Ligação refere-se a vincular um alvo a um alvo traseiro com solda. Leia Mais »

A pureza do alvo cerâmico tem uma grande influência no desempenho do filme de pulverização. Quanto maior a pureza, melhor a uniformidade do filme de sputtering e a qualidade dos produtos em lote. Além disso, a fim de preparar alvo cerâmico de alto desempenho, deveríamos controlar esses fatores, principalmente incluindo método de moldagem, tamanho de matéria-prima, efeito de sinterização, hoje para analisar os principais fatores que afetam o desempenho do alvo cerâmico são aqueles. Leia Mais »

O material alvo é o material de fazer filme fino, usando o material de destino bombardeado por partículas carregadas de alta velocidade, através de diferentes laser (feixe de ion) e diferentes interações de material alvo para obter um sistema de membrana diferente, para atingir a função de condução e bloqueio . Portanto, o alvo também é chamado \"alvo de pulverização \". Seu princípio de funcionamento é usar os íons gerados pela fonte de íons para reunir e acelerar no vácuo Leia Mais »

O alvo de pulverização é o fator mais importante para determinar o rendimento do semicondutor. Assim, aplicado ao ponto-semicondutor e o grau de precisão requerido, é a maior pureza, o grau de pureza de materiais alvo de pulverização e precisão afetará diretamente o desempenho do semicondutor, a diferença de sputtering materiais alvo é as conseqüências mais diretas causadas por curto-circuito semicondutor Leia Mais »

O revestimento de sputtering magnetron é um novo método de revestimento de fase gasosa física, que é usar o sistema de arma de elétrons para emitir elétrons e focar no material revestido, para que os átomos de pulverização se seguem o princípio de conversão de momentum para voar do material com um alto cinético energia para o filme de deposição de substrato. Este material banhado é chamado de alvo de pulverização. Leia Mais »

Metal Alvo Níquel, Ni, Titânio, Ti, Zinco, Zn, Chromium, CR, Magnésio, MG, Nióbio, NB, Estanho, Sn, Alumínio, Al, Ínio, Em, Ferro, Fe, Zircónio, Zral, Titânio-Alumínio, Tial, Zircônio, Zr, Alumínio-silicone, Alsi, Silício, Si, Cobre, Cu, Tantalum, T, A, GE, Target prateado, Alvo AG, Alvo de cobalto, Meta de COBALT, Alvo de Ouro, Alvo da Au, Alvo de Gadolinium Leia Mais »

Em 27 de setembro, o Ministério da Ecologia e Meio Ambiente realizaram um briefing sobre políticas de mudança climática. Introduziu as políticas relacionadas às mudanças climáticas na China e na posição básica, do ambiente ecológico, diretor-geral do Departamento de Mudança Climática Li, durante o período de \"diffère Leia Mais »

Recentemente, uma espécie de artefato de economia de energia de alumínio eletrolítico chamado instrumento de medição em tempo real de pré-tanque portátil foi desenvolvido com sucesso. O instrumento de medição é desenvolvido pela Beijing Core Power Technology Co., Ltd. Com base na temperatura original de Crystal Measuri Leia Mais »

Recentemente, o Cobre Sérvio Zijin segurou a cerimônia \"Kuanggongjie\" \", a mineração da Sérvia e o ministro da Energia, a Antic participaram da cerimônia, e apresentou quatro funcionários com prêmio \" Š Isteck Engineer \". O ministro Antic apontou que, no primeiro semestre de 2020, sob a situação da prevenção epidêmica e CO Leia Mais »

Um mês após o lançamento bem-sucedido de um lon longo 3b carrier foguete carregando o Beidou-3, um foguete longo de março de 5 em 23 de julho, em 23 de julho, levantando o Tianwen - 1. Eles estão compondo o Grand Prelúdio da sinfonia do poder espacial da China no espaço e Leia Mais »