A pulverização é uma das principais tecnologias de preparação de materiais de filme fino, que faz uso do íon, fonte de íons através da aceleração recolhida em um vácuo, e a formação de um feixe de íons de alta velocidade, o bombardeio de superfície sólida, íons e sólidos. Troca de momentum atômica superficial, de sólido e deposição atômica de superfície sólida na superfície basal, como os materiais alvo de sólidos bombardeados.
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